北京石久高研金属材料有限公司（简称石久高研）公司成立于2005年，是经北京市科学技术委员会确认的高新技术企业。地理位置优越，交通便利。自公司成立以来受到有色金属研究总院、中国科学院、清华大学等科研院校的大力支持，并保持着长期稳定的合作关系。

石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司拥有一流的镀膜材料领域的专业人才，具有雄厚的研发、生产实力。随着近年来高科技领域内薄膜的兴起和蓬勃发展，特别是微电子与光电子产业迅速发展，对镀膜材料的要求也达到了一个新的高度，公司密切关注国内外镀膜及镀膜材料的发展方向，为相关行业提供先进、优质的镀膜材料。

公司是靶材、合金靶材、金属靶材、陶瓷靶材、氧化物镀膜材料、低温超导陶瓷等产品专业生产加工的公司，拥有完整、科学的质量管理体系。

展望未来，与时俱进。我们将始终坚持“品质就是生命，信誉就是效益”的经营理念，凭借强大的科研实力和精良的制造设备，以及对客户高度的责任心，相信明辰必将成为行业的领跑者，与广大客户携手共进，合作双赢，一起迎接明天的辉煌。

公司供应真空溅射靶材：金属靶材：钛靶Ti、铝靶Al、锡靶Sn、铪靶Hf、铅靶Pb、镍靶Ni、银靶Ag、碳靶C、钒靶V、铟靶In、钨靶W、铜靶Cu、硅靶Si、钽靶Ta、锌靶Zn、镁靶Mg、锆靶Zr、铬靶Cr、不锈钢靶材S-S、铌靶Nb、钼靶Mo、钴靶Co、铁靶Fe、锗靶Ge等……

合金靶材：铁钴靶FeCo、钛镍靶TiNi、镍铬靶NiCr、镍钒靶NiV、镍铁靶NiFe等……

陶瓷靶材：一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化钛靶TiO2，五氧化二钽靶Ta2O5，五氧化二铌靶Nb2O5，氧化锌靶ZnO、氧化镁靶MgO，ITO靶，硅靶Si、氟化镁靶MgF2、氟化钙靶CaF2

纯度：《99.9%—99.999%》根据客户要求加工成各种规格尺寸的靶材。

光学镀膜材料

氧化物：一氧化硅SiO、二氧化硅SiO2、一氧化钛TiO、二氧化钛TiO2、三氧化二钛Ti2O3、五氧化三钛Ti3O5、二氧化锆ZrO2、二氧化铪Hf02、三氧化钨WO3、五氧化二钽Ta2O5、五氧化二铌Nb2O5、三氧化二铝Al2O2、氧化锌ZnO、氧化镁MgO、氧化钆Gd2O2、氧化钐Sm2O3、氧化钕Nd2O3、氧化镨Pr6O11、氧化铋Bi2O3、氧化铬Cr2O3、氧化镍NiO、氧化铁Fe2O3等…

氟化物：氟化镁MgF2、氟化钙CaF2等…

真空镀膜材料

（镀制：复合膜，彩色膜,增透膜，透紫外膜，气敏传感器膜，高温介质膜，光学膜，激光装置滤光片，保护膜，透明导电膜，变色膜，优良的宽带增透膜，磁性薄膜，可见光区增透膜，红外增透膜，分光膜，多层膜，高反射膜，电阻膜，热反射膜，冷光膜膜）

高品质真空镀膜材料（4N-5N）：

1.氧化物:一氧化硅靶材，SiO靶材,二氧化硅靶材，SiO2靶材,二氧化钛靶材，TiO2靶材,二氧化锆靶材，ZrO2靶材,二氧化铪靶材，HfO2靶材,一氧化钛靶材，TiO靶材,五氧化三钛靶材，Ti3O5靶材，五氧化二铌靶材，Nb2O5靶材，五氧化二钽，Ta2O5靶材,等高纯氧化物镀膜材料。

2.氟化物：氟化镁靶材，MgF2颗粒，氟化钙颗粒等高纯氟化物。

3.金属镀膜材料：高纯铝靶材，Al靶材，高纯铜靶材，Cu靶材，高纯钛靶材，Ti靶材，高纯硅靶材，Si靶材，高纯银靶材，Ag靶材，高纯铟靶材，In靶材，高纯镁靶材，Mg靶材，高纯锌靶材，Zn靶材，高纯锗靶材，Ge靶材，高纯镍靶材，Ni靶材,镍铬合金靶材，NiCr靶材，锌铝合金靶材等镀膜材料。